Punkt und Linie zum Raster

Claus Pias

Punkt und Linie zum Raster

Claus Pias

Bauhaus-Universität Weimar

Research output: Contributions to collected editions/works › Contribution of Exihibition catalogues › Research

Original language	German
Title of host publication	Ornament und Abstraktion : Kunst der Kulturen, Moderne und Gegenwart im Dialog ; [anlässlich der Ausstellung "Ornament und Abstraktion - Kunst der Kulturen, Moderne und Gegenwart im Dialog" in der Fondation Beyeler, Riehen, Basel 10. Juni - 7. Oktober 2001]
Editors	Markus Brüderlin
Number of pages	6
Place of Publication	Köln
Publisher	DuMont Literatur und Kunst Verlag
Publication date	2001
Pages	64-69
ISBN (Print)	3-7701-5825-3
Publication status	Published - 2001
Externally published	Yes

Research areas and keywords

Cultural Informatics
Cultural studies
Media and communication studies

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https://www.uni-due.de/~bj0063/texte/abstraktion_de.htmlLicence: In Copyright

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Pias, C. (2001). Punkt und Linie zum Raster. In M. Brüderlin (Ed.), Ornament und Abstraktion: Kunst der Kulturen, Moderne und Gegenwart im Dialog ; [anlässlich der Ausstellung "Ornament und Abstraktion - Kunst der Kulturen, Moderne und Gegenwart im Dialog" in der Fondation Beyeler, Riehen, Basel 10. Juni - 7. Oktober 2001] (pp. 64-69). DuMont Literatur und Kunst Verlag. https://www.uni-due.de/~bj0063/texte/abstraktion_de.html

Pias, Claus. / Punkt und Linie zum Raster. Ornament und Abstraktion: Kunst der Kulturen, Moderne und Gegenwart im Dialog ; [anlässlich der Ausstellung "Ornament und Abstraktion - Kunst der Kulturen, Moderne und Gegenwart im Dialog" in der Fondation Beyeler, Riehen, Basel 10. Juni - 7. Oktober 2001]. editor / Markus Brüderlin. Köln : DuMont Literatur und Kunst Verlag, 2001. pp. 64-69

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Ornament und Abstraktion: Kunst der Kulturen, Moderne und Gegenwart im Dialog ; [anlässlich der Ausstellung "Ornament und Abstraktion - Kunst der Kulturen, Moderne und Gegenwart im Dialog" in der Fondation Beyeler, Riehen, Basel 10. Juni - 7. Oktober 2001]. ed. / Markus Brüderlin. Köln: DuMont Literatur und Kunst Verlag, 2001. p. 64-69.

Research output: Contributions to collected editions/works › Contribution of Exihibition catalogues › Research

Pias C. Punkt und Linie zum Raster. In Brüderlin M, editor, Ornament und Abstraktion: Kunst der Kulturen, Moderne und Gegenwart im Dialog ; [anlässlich der Ausstellung "Ornament und Abstraktion - Kunst der Kulturen, Moderne und Gegenwart im Dialog" in der Fondation Beyeler, Riehen, Basel 10. Juni - 7. Oktober 2001]. Köln: DuMont Literatur und Kunst Verlag. 2001. p. 64-69