Punkt und Linie zum Raster

Claus Pias

Punkt und Linie zum Raster

Claus Pias

Bauhaus-Universität Weimar

Publikation: Beiträge in Sammelwerken › Beiträge in Ausstellungskatalogen › Forschung

Originalsprache	Deutsch
Titel	Ornament und Abstraktion : Kunst der Kulturen, Moderne und Gegenwart im Dialog ; [anlässlich der Ausstellung "Ornament und Abstraktion - Kunst der Kulturen, Moderne und Gegenwart im Dialog" in der Fondation Beyeler, Riehen, Basel 10. Juni - 7. Oktober 2001]
Redakteure/-innen	Markus Brüderlin
Seitenumfang	6
Erscheinungsort	Köln
Herausgeber (Verlag)	DuMont Literatur und Kunst Verlag
Erscheinungsdatum	2001
Seiten	64-69
ISBN (Print)	3-7701-5825-3
Publikationsstatus	Erschienen - 2001
Extern publiziert	Ja

Fachgebiete und Schlagwörter

Kulturinformatik
Kulturwissenschaften allg.
Medien- und Kommunikationswissenschaft

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https://www.uni-due.de/~bj0063/texte/abstraktion_de.htmlLizenz: Urheberrechtlich geschützt

Dieses zitieren

Pias, C. (2001). Punkt und Linie zum Raster. in M. Brüderlin (Hrsg.), Ornament und Abstraktion: Kunst der Kulturen, Moderne und Gegenwart im Dialog ; [anlässlich der Ausstellung "Ornament und Abstraktion - Kunst der Kulturen, Moderne und Gegenwart im Dialog" in der Fondation Beyeler, Riehen, Basel 10. Juni - 7. Oktober 2001] (S. 64-69). DuMont Literatur und Kunst Verlag. https://www.uni-due.de/~bj0063/texte/abstraktion_de.html

Pias, Claus. / Punkt und Linie zum Raster. Ornament und Abstraktion: Kunst der Kulturen, Moderne und Gegenwart im Dialog ; [anlässlich der Ausstellung "Ornament und Abstraktion - Kunst der Kulturen, Moderne und Gegenwart im Dialog" in der Fondation Beyeler, Riehen, Basel 10. Juni - 7. Oktober 2001]. Hrsg. / Markus Brüderlin. Köln : DuMont Literatur und Kunst Verlag, 2001. S. 64-69

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Ornament und Abstraktion: Kunst der Kulturen, Moderne und Gegenwart im Dialog ; [anlässlich der Ausstellung "Ornament und Abstraktion - Kunst der Kulturen, Moderne und Gegenwart im Dialog" in der Fondation Beyeler, Riehen, Basel 10. Juni - 7. Oktober 2001]. Hrsg. / Markus Brüderlin. Köln: DuMont Literatur und Kunst Verlag, 2001. S. 64-69.

Publikation: Beiträge in Sammelwerken › Beiträge in Ausstellungskatalogen › Forschung

Pias C. Punkt und Linie zum Raster. in Brüderlin M, Hrsg., Ornament und Abstraktion: Kunst der Kulturen, Moderne und Gegenwart im Dialog ; [anlässlich der Ausstellung "Ornament und Abstraktion - Kunst der Kulturen, Moderne und Gegenwart im Dialog" in der Fondation Beyeler, Riehen, Basel 10. Juni - 7. Oktober 2001]. Köln: DuMont Literatur und Kunst Verlag. 2001. S. 64-69